1. [명사] 평판 인쇄의 하나. 표면에 비누와 기름을 섞은 재료로 글자나 그림을 그려 제판하는데, 물과 지방의 반발성을 응용하여 인쇄한다.
2. [명사] 반도체 기판에 회로를 새겨 넣는 기법의 하나. 기판 위에 회로의 원형을 새긴 마스크를 올리고 그 위에서 레이저, 엑스선, 입자 빔 따위를 쪼여서 반도체 기판에 마스크 모양이 그대로 옮겨지도록 한다.
3. 반도체의 표면에 사진 인쇄 기술을 써서 집적 회로, 부품, 박막 회로, 프린트 배선 패턴 따위를 만들어 넣는 기법. 반도체 웨이퍼 위에 감광 성질이 있는 포토레지스트를 얇게 바른 후, 원하는 마스크 패턴을 올려놓고 빛을 가해 사진을 찍는 것과 같은 방법으로 회로를 형성하는 것이다.
4. 극자외선 영역의 파장을 띠는 빛을 감광막에 노출하여 원하는 패턴을 얻는 방법.
5. 재료를 나노 크기로 만들기 위해 전자 빔이나 이온 빔 따위로 깎아 내는 방법.
6. 엑스선을 사용한 리소그래피. 집적 회로를 제조하는 과정에서, 마스크의 미세한 패턴을 엑스선으로 반도체 웨이퍼에 전사한다.
7. 대규모 집적 회로의 회로 패턴을 실리콘 기판에 전사(轉寫)하는 리소그래피 공정에서, 빛의 간섭을 이용하여 해상도를 높이는 방법.
8. 대규모 집적 회로의 회로 패턴을 실리콘 기판에 전사(轉寫)하는 리소그래피 공정에서, 빛의 간섭을 이용하여 해상도를 높이는 방법.
9. 반도체 기판 따위에 전자 빔을 이용하여 매우 미세한 전자 회로를 그리는 기법.
10. 반도체 집적 회로의 제조 과정에서 회로 패턴을 기록하는 방식. 전자총·전자 렌즈·편향계(偏向系)·시료대(試料臺)로 이루어지며 텅스텐·육붕소화 란타넘 따위의 음극에서 방출된 전자선을 수십 kV로 가속하여 전자 렌즈로 수렴하고, 편광계에서 주사하여 미세한 패턴을 감광 재료에 노출(露出)한다.